Descripción de los productos
En condiciones remotas, el polvo de silicio puede estar completamente nitrurado en el proceso SHS para generarnitruro de silicio, y el producto tiene alto contenido de nitrógeno y bajo contenido de oxígeno, pero es fase. En la reacción Silicon Fume SHS, se debe agregar una cantidad apropiada de Si _3 n _4 semilla; La velocidad de propagación de la onda de combustión de silicio de SHS aumenta con el aumento de la presión de nitrógeno y la disminución de la densidad de llenado del reactivo, pero es independiente de la composición del reactante y el diámetro de la muestra. La temperatura de la onda de combustión aumentó con el aumento de la presión de nitrógeno y el aumento del diámetro de la muestra, que fue independiente de la composición de reactivos y la densidad de llenado.
Parámetros de productos
| Calificación | N | Si | Ca min | Oh min | Al Min | C | Fe Min |
| Si3n 485-99 | 32-39 | 55-60 | 0.25 | 1.5 | 0.25 | 0.3 | 0.25 |
Imagen de cooperación de productos
1.Nitruro de silicioLas películas se prepararon utilizando la tecnología de deposición de vapor químico de plasma (PECVD) en diferentes condiciones de deposición (rango de temperatura del sustrato de 20 ~ 180 grados y potencia de RF de 10 ~ 30w), y se estudiaron los efectos de las condiciones de deposición en las propiedades y las propiedades impermeables de las películas de nitruro de silicio. Los resultados experimentales muestran que con el aumento de la temperatura del sustrato, la densidad, el índice de refracción y la relación SI/N de las películas de nitruro de silicio aumentan correspondientemente, mientras que la tasa de deposición y el contenido de H disminuyen correspondientemente. Con el aumento de la potencia de RF, la tasa de deposición, la densidad, el índice de refracción y la relación SI/N de las películas de nitruro de silicio aumentan correspondientemente, mientras que el contenido de H disminuye correspondientemente. El experimento de permeación de vapor de agua muestra que incluso si la temperatura del sustrato se reduce a 50 grados, la película de nitruro de silicio depositada todavía tiene un buen rendimiento impermeable. Los resultados experimentales muestran que las películas de nitruro de silicio a baja temperatura se pueden aplicar efectivamente al empaque de dispositivos emisores de luz orgánicos (OLED).
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