Metal de silicio de alto nivel 2202

Los sistemas de contacto entre el metal de transición y el silicio han estado atrayendo la atención debido a su importancia en la formación de barreras de Schottky, el crecimiento epitaxial de la transiciónSilicon Metal 2202, la estabilidad y la alta resistencia a la temperatura del dispositivo de fabricación. Por lo tanto, la formación de películas de silicidio metálico en sustratos de silicio también se usa ampliamente en la industria de semiconductores. Las películas CR, Fe y Mn evaporadas en el sustrato de silicio se trataron con calor, y las películas de silicida de metal de transición se prepararon mediante reacción en fase sólida (SPR), es decir, se llevaron a cabo varias pruebas de temperatura en el silicide de metal de transición (delgada película)/SIS SISTEMA.

1.RefractarioSilicon Metal 2202Tiene una alta resistencia a la oxidación de alta densidad, alta resistencia, baja densidad y buena temperatura, que es un material estructural de alta temperatura muy prometedor, pero su fragilidad de alta temperatura ambiente dificulta su aplicación industrial. La fragilidad de alta temperatura ambiente y la baja resistencia a la alta temperatura de los compuestos intermetálicos de alta temperatura se pueden mejorar de manera efectiva a través de la aleación y la compuesta, así como las técnicas avanzadas de preparación de materiales. Basado en el concepto de síntesis in situ de materiales compuestos, se diseñaron tres aleaciones de complejos de silicidio metálico, Cu-Mo-Si, Co-Mo-Si y Ni-Mo-Si, y los materiales de aleación de fase complejos con solución sólida de metal Dispersada en la matriz de silicida metálica se sintetizaron mediante reacción in situ utilizando polvos industriales puros puros, co, ni, mo y Si, como materias primas. Por Xrd, OM ...

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