Carburo de silicio de producto de alto nivel

TMAH puede aumentar significativamente el potencial zeta decarburo de silicioPolvo y reduzca la viscosidad de la lechada, optimizando significativamente las propiedades reológicas de la suspensión. A pH aproximadamente 1 0, el potencial ZETA aumentó en 11.7 mV y 21 mV, respectivamente, después de agregar 0. 3% y 0.6% TMAH. El dispersante excesivo aumentará la concentración de iones en la lechada y conducirá a una disminución en el grosor de la doble capa eléctrica, empeorando así la reología de la lechada.

1.Un método para preparar películas delgadas modificadas por silicio en sinterizado reactivocarburo de silicio(RB-SIC) Materiales mediante el uso de una fuente de iones de tipo salón para ayudar a la evaporación del haz de electrones, y se estudió el efecto de pulido de las películas modificadas a diferentes tasas de deposición. Las mediciones de dispersión de superficie y reflexión se llevaron a cabo en las muestras. Las micrografías de las muestras muestran que la estructura de la capa de película de silicio tiende a estar floja bajo la condición de aumentar la tasa de deposición. Después de pulir finamente la sinterización reactiva de las muestras de carburo de silicio recubiertas con películas modificadas por silicio, el coeficiente de dispersión de la superficie disminuye a 1.46%, y la reflectividad es cercana a la de la cerámica de vidrio bien pulido. La prueba de choque de temperatura y la prueba de tracción de la superficie muestran que la película de silicio no tiene grietas ni caídas, es de naturaleza estable y tiene una buena combinación con el sustrato de carburo de silicio.

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