Una de las escoria de silicio de metal de alto nivel

Una de las escoria de silicio de metal de alto nivel

La escoria de sílice es una especie de escoria obtenida mediante el procesamiento de metal de silicio, y el contenido de silicio es extremadamente alto.
Envíeconsulta
Descripción

Descripción de los productos

 

Optimizar la cantidad de desechos de agua alcalina yescoria de silicioPuede preparar materiales cementitivos alcalinos con un buen desarrollo de fuerza y ​​tiempo de ajuste normal, y reducir efectivamente el costo de los materiales cementitivos alcalinos. Además, se descubrió que, además del gel CSH, los productos de hidratación de este material cementoso alcalino también incluían dos minerales de zeolita insolubles, aluminosilicato de calcio CA (Al2SI2O8) @4H2O, aluminosilicato de calcio (NA, CA) AL3SI5O16.

 

Parámetros de productos

Tipo Composición química (%)
Si Alabama S P C
  Menos o igual a
Escoria de silicio 35-38 35-38 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 38-42 38-42 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 42-47 42-47 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 50-55 50-55 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 55-60 55-60 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 60-65 60-65 5 0.1 0.05 5
Tamaño 10-50 mm 90% min /10-70 mm 90% min /10-100 mm 90% min

 

Imagen de cooperación de productos

ZhenAn17

1.Método y dispositivo para producir clorosilano mediante el uso de Organosiliconescoria de silicio, que involucra el campo de la tecnología de Organosilicon. El método de producir clorosilano mediante el uso de la escoria de sílice de organosilicio comprende: el uso de gas inerte para producir presión negativa en el puerto de alimentación de escoria de silicio y el puerto de alimentación de gas de reacción mediante el uso de gas inerte en el dispositivo de mezcla, y luego hacer la escoria de sílice y la mezcla de gas de reacción uniformemente en el dispositivo de mezcla, en el que la velocidad de flujo del gas inútil es 100300M/S, y el gas de reacción de gas o el gas de chloruro o el gas de la reacción o el gas de calatado; El gas mixto se reaccionó a una temperatura de 240350 grados, inicialmente se enfrió a una temperatura de 130160 grados, y luego se enfrió a una temperatura de 70130 grados para obtener gas clorosilano. El dispositivo para producir clorosilano mediante el uso de la escoria de sílice de organosilicio es un dispositivo para implementar el método anterior, y la mezcla completa de escoria de sílice y gas de reacción se realiza mejorando el dispositivo de mezcla de gas-sólido, y luego el producto clorosilano se obtiene después de la reacción y la eliminación de la impureza.

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