Escoria de silicio de metal de alto nivel

Escoria de silicio de metal de alto nivel

La escoria de sílice es un tipo de escoria obtenida mediante el procesamiento de metal de silicio, con contenido de silicio extremadamente alto.
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Descripción

Descripción de los productos

 

Un método de procesamiento simple, a través de la selección de manos, selección de máquinas, lotes, fundición y otros procesos, el uso de tecnología patentada, el uso del horno de frecuencia de potencia, con flujo sintético patentado, del industrial del industrial.escoria de silicioPara refinar el silicio elemental, el producto para lograr la precisión de silicio industrial, el método de refinación es simple, de bajo costo, es una nueva tecnología de conservación de energía y reducción de emisiones en la industria de silicio.

 

Parámetros de productos

Tipo Composición química (%)
Si Alabama S P C
  Menos o igual a
Escoria de silicio 35-38 35-38 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 38-42 38-42 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 42-47 42-47 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 50-55 50-55 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 55-60 55-60 5 0.1 0.05 5
Escoria de silicio 60-65 60-65 5 0.1 0.05 5
Tamaño 10-50 mm 90% min /10-70 mm 90% min /10-100 mm 90% min

 

Imagen de cooperación de productos

Transporting silicon metal

1.El método de eliminación de borde que implica la mejora deescoria de silicioy autocontrol después de la epitaxia del sustrato se lleva a cabo cuando se elimina la capa de sellado posterior LTO, y el parámetro de chaflán se establece dentro de 300 μm. Luego, se lleva a cabo la corrosión de HF, el volumen de líquido de corrosión HF es del 40% ~ 50% del volumen X del líquido de corrosión de eliminación de borde convencional en la industria, y el tiempo de corrosión es del 70% ~ 80% del tiempo de extracción de la industria de la industria, el tiempo de corrosión y el líquido y es muy innovador y práctico encontrar un método para mejorar el escorionado de sílica y la autodopación después del epitaxi de la subsiduidad del subsulio de la subsulería.

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