Material de alto nivel Silicon Metal 97

Silicon Metal 97se usa ampliamente en el contacto entre la fuente, el drenaje y la puerta y el electrodo metálico en dispositivos microelectrónicos, y es uno de los materiales clave para la preparación de circuitos nano integrados. También se puede utilizar para la composición de fase, la reacción de la interfaz y el mecanismo de formación del silicidio metálico funcional para los circuitos integrados de semiconductores, así como la evaporación térmica, la implantación iónica, la deposición de laputina, la epitaxia del haz molecular y otras tecnologías de preparación.

1.El método de polvo de arco de corriente continua se usó para disparar espectroscopía en la atmósfera de argón, eliminar la interferencia de la banda de silicio y el berilio se usó como el estándar interno para determinar directamente 12 elementos de impureza enSilicon Metal 97,Lo cual era más simple de operar, más rápido y menos consumo de reactivos que la espectrometría química. En comparación con el método químico y la espectrofotometría, puede determinar 12 elementos al mismo tiempo, lo que puede reflejar mejor el contenido verdadero del metal de silicio. El metal de Silicon se preparó con éxito mediante la reducción de carbono-térmica de la ceniza de cáscara de arroz y el efecto de C/SiO2 Se investigó la relación de masa sobre la preparación de metal de silicio, y las muestras se caracterizaron por métodos de prueba XRD y RA-Man. Los resultados muestran que cuando la relación de masa de C/SiO2 es 1: 2.5, la fase cristalina principal de la muestra es el metal de silicio, lo que reduce el costo de la producción de metal de silicio y proporciona una nueva forma para la utilización de recursos de cenizas de cáscara de arroz.

Etiqueta: Material de alto nivel Silicon Metal 97, China Material de alto nivel Silicon Metal 97 Fabricantes, proveedores, fábrica