Placa de aleación Ta-Mo, objetivo de pulverización de tantalio y molibdeno para recubrimiento
El tantalio del metal apunta al 99,95% de pureza del tantalio Ta Objetivos planos El objetivo giratorio para recubrimiento de pvd modifica el tamaño para requisitos particulares
Objetivo de pulverización de metal de alta pureza, 99.995% molibdeno, tantalio, tungsteno, titanio, paladio, oro, plata, suministro de ZhenAn
¿Qué es el objetivo de tantalio?
Pureza: Mayor o igual al 99,95%, 99,99%
Especificaciones: Procesado según los requisitos del cliente.
Procesamiento: laminación en frío, decapado, cizallado.
Pureza: Mayor o igual al 99,95%, 99,99%
Estado: duro, semiduro, recocido
Condiciones técnicas: de acuerdo con GB3269-83 (placas, tiras y láminas de tantalio y aleaciones de tantalio),
GB/T3628-1995 (tantalio y láminas de aleación de tantalio),
ASTM B708-92 (tantalio y aleaciones de tantalio, placas medianas y gruesas, placas delgadas, tiras y láminas)